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[알파경제=영상제작국] 삼성반도체가 반도체 생산 공정에서 수율 확보 방식을 기존 순차방식에서 다중방식으로 전격 전환했습니다. 이번 변화는 생산 효율성을 극대화하고 불량률을 낮추기 위한 전략적 결정으로 풀이됩니다.
삼성전자 내부 관계자는 “삼성이 최근 반도체 수율 확보 방식을 순차에서 다중으로 전환했다”면서 “최첨단 1c D램 수율이 50%에서 80%까지 들쭉날쭉한 이유는 모든 공장이 동시다발적으로 수율 경쟁을 벌이고 있기 때문”이라고 밝혔습니다.
기존에는 양산 가능한 수준인 20~30% 수율이 확보되면 1공장에서 먼저 이익 충족 기준인 70~80% 수준까지 끌어올렸습니다. 이후 2공장, 3공장, 4공장으로 순차적으로 양산을 이어가는 방식이었습니다.
하지만 올해부터는 전영현 부회장 지시로 20~30% 양산 수율의 1c D램을 1공장에서 4공장까지 동시에 수율 잡기 경쟁 체제로 전환했습니다. 가장 앞선 수율 확보 공장의 기술 방식을 타 공장에도 적용하며 빠르게 수율 확보에 도달하는 무한 경쟁 체제로 바뀌었습니다.
새로 도입된 다중 방식은 여러 공정을 동시에 진행해 전체 공정 시간을 단축하고 설비 가동률을 높여 생산성을 크게 향상시킬 수 있습니다. 실시간 데이터 분석을 통해 잠재적 문제를 조기에 감지하고 해결함으로써 불량률 감소 효과도 기대됩니다.
강관우 전 모건스탠리 이사 겸 더프레미어 대표는 “삼성반도체의 수율 확보 방식 전환은 세계 1위 반도체 기업 탈환이라는 절박한 목표 속에 나온 고육지책”이라며 “하이 리스크 하이 리턴에 가까운 1c D램 다중수율 확보 도박이 성공하면 HBM4에서 글로벌 주도권을 되찾아갈 가능성이 높아졌다”고 설명했습니다.
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