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| (사진=연합뉴스) |
[알파경제=(고베) 우소연 특파원] 미국의 반도체 거인 인텔과 일본의 산업기술종합연구소(산총연)가 손을 잡고 최첨단 반도체 제조 장비와 소재 연구개발(R&D) 센터를 일본 국내에 설립할 계획이라고 니혼게이자이신문(닛케이)이 4일 보도했다.
일본이 첨단 반도체 기술 개발에 박차를 가하고 있다. 이는 반도체가 경제 안보에서 차지하는 중요성이 커지고 해외에서 얻은 연구 데이터의 일본 이전이 어려워지는 상황에 대응하기 위한 조치로 해석된다.
이 새로운 연구 거점은 최첨단 시설을 갖추어 제조 장비와 소재 개발을 촉진할 것으로 기대된다.
혁신적인 연구 센터는 3~5년 내에 설립될 예정이며, 일본 연구 기관으로는 최초로 극한 자외선(EUV) 노광 장치를 도입할 계획이다.
EUV 장치는 5나노미터 이하의 초미세 반도체 생산에 필수적인 장비로 산총연이 운영을 맡고, 인텔이 EUV를 활용한 반도체 제조 노하우를 제공하는 방식으로 협력이 이뤄질 전망이다.
이 프로젝트에 투입될 총 투자금액은 수백억 엔에 달할 것으로 예상된다.
새로운 연구 센터는 기업들에게 유료로 EUV 장비 사용 기회를 제공하여 시제품 제작과 실험을 가능하게 할 예정이다.
또한, 미국 연구 기관들과의 기술 협력 및 인재 교류도 고려 중에 있다. 이는 일본이 글로벌 반도체 기술 경쟁에서 뒤처지지 않기 위한 전략적 움직임으로 해석된다.
현재 일본에서는 라피다스라는 기업이 2024년 12월에 제조용 EUV 장치 도입을 계획하고 있지만, 연구 기관 차원에서는 EUV 장비를 보유하지 못한 상태였다.
EUV 장치의 가격이 1대당 400억 엔을 넘는 고가의 장비이기 때문에, 개별 소재나 장치 제조업체가 독자적으로 구매하기는 어려운 실정이었다.
이러한 상황에서 많은 일본 기업들은 벨기에의 imec(아이멕) 같은 해외 연구 기관의 EUV 장비를 이용해 개발을 진행해 왔다.
그러나 이번 연구 센터 설립으로 일본 기업들은 자국 내에서 최첨단 장비를 이용한 연구 개발이 가능해질 전망이다.
이는 일본의 반도체 산업 경쟁력 강화에 큰 도움이 될 것으로 기대된다.
알파경제 우소연 특파원(wsy0327@alphabiz.co.kr)
